松村 英樹,細田 陽一,古川 静二郎: "低温形成、触媒CVDポリ・シリコンの高移動度化と膜堆積機構の検討." 応用物理学会、秋季全国大会予稿集. 18a-Zs-6. 711-711 (1992)
松村 英樹,細田 陽一,古川 静二郎: "低温形成、触媒CVDポリ・シリコンの高移動度化と膜堆積機構の検討." 応用物理学会、秋季全国大会予稿集. 18a-Zs-6. 711-711 (1992)
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Hideki Matsumura、Yoichi Hosoda、Seijiro Furukawa：“催化 CVD 多晶硅的低温形成、高迁移率以及薄膜沉积机制的研究。”日本应用物理学会秋季全国会议论文集 18a-Zs-6。 (1992)
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