High growth rate deposition of oriented hexagonal InN films
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DOI：
10.1016/s0040-6090(01)01754-0
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发表时间：
2002-02
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Fuh-Hsiang Yang;Jih-Shang;Hwang;Kuei-Hsien Chen;Ying-Jay Yang;T. Lee;L. Hwa;Li‐Chyong Chen
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Fuh-Hsiang Yang;Jih-Shang;Hwang;Kuei-Hsien Chen;Ying-Jay Yang;T. Lee;L. Hwa;Li‐Chyong Chen
