Stochastic Effect on Contact Hole Imaging of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists
Stochastic Effect on Contact Hole Imaging of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists
复制标题
化学放大极紫外光刻胶接触孔成像的随机效应
DOI：
10.7567/jjap.52.086501
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Kozawa and T. Hirayama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masaaki Nagatsu;Anchu Viswan;Tomy Abuzairi;Mitsuru Okada;Kuniaki Sugiura;Retno W. Purnamaningsih;and Nji R. Poespawat;木村拓也;T. Kozawa and T. Hirayama
