Kensuke Akiyama, Takeshi Kimura, Takashi Suemasu, Fumio Hasegawa, Yoshihito Maeda, Hiroshi Funakubo: "Growth of Epitaxial β-FeSi_2 Thin Film on Si(001) by Metal Organic Chemical Vapor Deposition"Jpn.J.Appl.Phys.. (印刷中).
Kensuke Akiyama, Takeshi Kimura, Takashi Suemasu, Fumio Hasegawa, Yoshihito Maeda, Hiroshi Funakubo: "Growth of Epitaxial β-FeSi_2 Thin Film on Si(001) by Metal Organic Chemical Vapor Deposition"Jpn.J.Appl.Phys.. (印刷中).
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Kensuke Akiyama、Takeshi Kimura、Takashi Suemasu、Fumio Hasekawa、Yoshihito Maeda、Hiroshi Funakubo:“通过金属有机化学气相沉积在 Si(001) 上生长外延 β-FeSi_2 薄膜”Jpn.J.Appl.Phys..(打印)期间)。
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