Fabrication of Fe_3Si/FeSi_2 Multilayers by Facing Targets Direct-Current Sputtering and The Magnetic Properties

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面向靶材直流溅射制备Fe_3Si/FeSi_2多层膜及其磁性能

DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
Proceedings of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas KWP-073
影响因子：
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通讯作者：
吉武剛
吉武剛
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
平川信一;堺研一郎;武田薫;吉武剛

文献摘要

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