新しい層状銅酸化物の薄膜合成と低温物性
新しい層状銅酸化物の薄膜合成と低温物性
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新型层状氧化铜的薄膜合成及低温性能
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiroshi Takatsu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
難波 杜人;高津 浩;三木田 梨歩;姚 思伽;片山 真祥;伊奈 稔哲;加藤 和男;寺嶋 孝仁;陰山 洋;Hiroshi Takatsu
