H.Soyama (H.Kumano and M.Saka): "Silicon Wafer Surface Treated by Cavitating Jet"Proceedings of International Symposia on Materials Science for the 21st Century-Micromaterials. (発表予定). (2001)
H.Soyama (H.Kumano and M.Saka): "Silicon Wafer Surface Treated by Cavitating Jet"Proceedings of International Symposia on Materials Science for the 21st Century-Micromaterials. (発表予定). (2001)
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H.Soyama（H.Kumano 和 M.Saka）：“空化射流处理的硅晶片表面”21 世纪材料科学微材料国际研讨会论文集（待发表）。
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