G.Tochtani: "RELATIONSHIP BETWEEN POWER FREQUENCY AND PROPERTIES OF SILICON OXIDE FILM DEPOSITIED FROM TEOS BY PLASMA CVD" Proceedings of the 8th Symposium on Plasma Processing. 8. 281-284 (1991)
G.Tochtani: "RELATIONSHIP BETWEEN POWER FREQUENCY AND PROPERTIES OF SILICON OXIDE FILM DEPOSITIED FROM TEOS BY PLASMA CVD" Proceedings of the 8th Symposium on Plasma Processing. 8. 281-284 (1991)
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G.Tochtani：“通过等离子体 CVD 从 TEOS 沉积的硅氧化膜的电源频率与性能之间的关系”第八届等离子体加工研讨会论文集。
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