赤外エバネッセント光によるSOIウエハ薄膜欠陥検出に関する研究(第4報)-表面欠陥検出の実験的検討-
赤外エバネッセント光によるSOIウエハ薄膜欠陥検出に関する研究(第4報)-表面欠陥検出の実験的検討-
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利用红外倏逝光进行SOI晶圆薄膜缺陷检测的研究（第四次报告）-表面缺陷检测的实验研究-
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高谷裕浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中島隆介;三好隆志;高谷裕浩
