1X nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作
1X nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作
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用于 EUV 双光束干涉曝光系统的透射光栅的制造，用于 1X nm HP 抗蚀剂评估
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
原田哲男
中科院分区：
文献类型：
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作者：
福田裕貴;福井 翼;谷野寛仁;九鬼真輝;渡邊健夫;木下博雄;原田哲男
