反応性スパッタリング法によるセパレータ用Cr-N膜のポストアニーリング条件検討
反応性スパッタリング法によるセパレータ用Cr-N膜のポストアニーリング条件検討
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采用反应溅射法研究隔膜用 Cr-N 薄膜的后退火条件
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
李鳴，星野太一，山田さくらこ，白仁田沙代子，梅田実
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Ueta;T. Tanaka;and A. Osuka;李鳴，星野太一，山田さくらこ，白仁田沙代子，梅田実
