Emission Spectroscopy from an XUV Laser Irradiated Solid Target

Emission Spectroscopy from an XUV Laser Irradiated Solid Target
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XUV 激光照射固体目标的发射光谱

DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
D. Riley
D. Riley
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
T. Dzelzainis;F. Khattak;B. Nagler;S. Vinko;T. Whitcher;A. Nelson;R. Lee;S. Bajt;S. Toleikis;R. Fäustlin;T. Tschentscher;L. Juha;M. Kozlová;J. Chalupský;V. Hájková;J. Krzywiński;R. Soberierski;M. Jurek;M. Fajardo;F. Rosmej;P. Heinmann;J. Wark;D. Riley

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我们在 DESY 中使用 XUV FLASH 激光器，以 13.5 nm 和 ~1016 Wcm−2 的强 XUV 脉冲照射固体目标。使用光栅光谱仪的 XUV 发射光谱已用于观察 Al IV 的连续辐射和线发射。我们提供了一些初步结果，表明时间积分温度低于 20eV，而模拟表明初始温度较高。
We have used the XUV FLASH laser at DESY to irradiate solid targets with intense XUV pulse at 13.5nm and ~1016 Wcm−2. XUV emission spectroscopy using a grating spectrometer has been used to observe both continuum radiation and line emission from Al IV. We present some preliminary results that indicate time integrated temperatures of below 20eV while simulation indicates higher initial temperatures.