Evaluation of Si wire waveguide fabricated by parallel plate RIE process using double layered EB resist containing C60
Evaluation of Si wire waveguide fabricated by parallel plate RIE process using double layered EB resist containing C60
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使用含有 C60 的双层 EB 抗蚀剂通过平行板 RIE 工艺制造的硅线波导的评估
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Maruyama and S. Arai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Inoue;N. Nishiyama;H. Enomoto;S. Tamura;T. Maruyama and S. Arai
