Cleaning-Free Dcposition of Highly Crystallized Si Films on Plastic Film Substrates Using Pulsed-Plasma CVD under Near-Atmosphcric Presure
Cleaning-Free Dcposition of Highly Crystallized Si Films on Plastic Film Substrates Using Pulsed-Plasma CVD under Near-Atmosphcric Presure
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在近大气压下使用脉冲等离子体 CVD 在塑料薄膜基材上免清洗沉积高度结晶的硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Matsumoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hashimoto M.;Komatsu K.;Maejima K.;Ozeki J.;Kagiwada S.;Takahashi S.;Yamaji Y.;Namba S.;小松健・石川一也・足立達司・白石拓也・橋本将典・山次康幸・難波成任;小松健・湊菜未・煉谷裕太朗・白石拓也・足立達司・難波成任;M.Matsumoto
