Behaviors of activated species in SiH4/H2 plasma for µc-Si:H thin film deposition
Behaviors of activated species in SiH4/H2 plasma for µc-Si:H thin film deposition
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µc-Si:H 薄膜沉积中 SiH4/H2 等离子体中活化物质的行为
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Hori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Takeda;Y. Abe;K. Ishikawa;H. Kondo;M. Sekine;M. Hori
