Atomic diffusion bonding with oxide underlayers using Al and amorphous Si films for high optical density Applications
Atomic diffusion bonding with oxide underlayers using Al and amorphous Si films for high optical density Applications
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使用铝和非晶硅薄膜与氧化物底层进行原子扩散键合，以实现高光密度应用
DOI：
10.35848/1347-4065/ac5870
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Uomoto and T. Shimatsu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Yonezawa;M. Uomoto and T. Shimatsu
