超音速分子線を用いたSi高指数面初期酸化過程の解析II
超音速分子線を用いたSi高指数面初期酸化過程の解析II
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超声分子束分析Si高折射率表面的初始氧化过程II
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田中正俊
中科院分区：
文献类型：
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作者：
大野真也;兼村瑠威;安部壮祐;井上慧;百瀬辰哉;吉越章隆;寺岡有殿;尾形祥一;安田哲二;田中正俊
