Multiple microscale plasma CVD apparatuses on a substrate
Multiple microscale plasma CVD apparatuses on a substrate
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基板上的多个微型等离子体CVD装置
DOI：
10.1016/s0040-6090(01)00955-5
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
K. Terashima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tsuyohito Ito;K. Terashima
