Annealing Studies of Nanoporous Si Thin Films Fabricated by Dry Etch
Annealing Studies of Nanoporous Si Thin Films Fabricated by Dry Etch
复制标题
干法刻蚀制备纳米多孔硅薄膜的退火研究
DOI：
10.30919/esmm5f608
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Medina, Fabian Javier
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hao, Qing;Xiao, Yue;Medina, Fabian Javier
