Fabrication of Si based Microchannel by Ar/F2 Vapor Etching and Plasma Etching
Fabrication of Si based Microchannel by Ar/F2 Vapor Etching and Plasma Etching
复制标题
Ar/F2气相刻蚀和等离子刻蚀制备硅基微通道
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Matsutani and A. Takada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Seiichi Sakamoto;Hiromichi Nakahara;and Osamu Shibata;松谷晃宏，高田綾子;A. Matsutani and A. Takada
