K.Sasaki: "Stoichiometry of Ta-N Film and its Application for Diffusion Barrier in Al_3Ta-N/Si Contact System" Japanese Journal of Applied Physics.
K.Sasaki: "Stoichiometry of Ta-N Film and its Application for Diffusion Barrier in Al_3Ta-N/Si Contact System" Japanese Journal of Applied Physics.
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K.Sasaki：“Ta-N 薄膜的化学计量及其在 Al_3Ta-N/Si 接触系统中扩散势垒的应用”日本应用物理学杂志。
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