Dependences of effective work functions of TaN on HfO2 and SiO2 on post-metallization anneal
Dependences of effective work functions of TaN on HfO2 and SiO2 on post-metallization anneal
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DOI：
10.1016/j.tsf.2008.08.058
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发表时间：
2008-11
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Y. Sugimoto;M. Kajiwara;Keisuke Yamamoto;Y. Suehiro;Dong Wang;H. Nakashima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Sugimoto;M. Kajiwara;Keisuke Yamamoto;Y. Suehiro;Dong Wang;H. Nakashima
