プラズマCVD法によるヘキサメチルジシロキサンと酸素からのシリカ成膜
プラズマCVD法によるヘキサメチルジシロキサンと酸素からのシリカ成膜
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使用等离子体 CVD 方法从六甲基二硅氧烷和氧气形成二氧化硅膜
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
竹田 依加・ 永冶 渉・ 高橋 諒・ 河瀬 元明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Erika Takeda;Ryo Takahashi;Sho Nagaya;Motoaki Kawase;竹田 依加・ 永冶 渉・ 高橋 諒・ 河瀬 元明
