S.Seki et al.: "Positive-Neagative Inversion of Silicon Based Resist materials:Poly(di-n-hexylsilane)for Ion Beam Irradiation" Jpn.J.Appl.Phys.36. 5361-5364 (1997)
S.Seki et al.: "Positive-Neagative Inversion of Silicon Based Resist materials:Poly(di-n-hexylsilane)for Ion Beam Irradiation" Jpn.J.Appl.Phys.36. 5361-5364 (1997)
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S.Seki 等人：“基于硅的抗蚀剂材料的正负反转：用于离子束照射的聚(二正己基硅烷)”Jpn.J.Appl.Phys.36。
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