化学気相蒸着法によるHfS2薄膜の作製
化学気相蒸着法によるHfS2薄膜の作製
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化学气相沉积法制备HfS2薄膜
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
柳瀬隆
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroshi Matsuda;Sota Ishizu;Ryo Maeda;and Haruya Okimoto;柳瀬隆
