C-H.Shon, T.Makabe: "Self-consistent simulation of N2/H2 gas plasma for low-K material etching"Bulletin of the Americal Physical Socoety. 48,6. 88 (2003)
C-H.Shon, T.Makabe: "Self-consistent simulation of N2/H2 gas plasma for low-K material etching"Bulletin of the Americal Physical Socoety. 48,6. 88 (2003)
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C-H.Shon、T.Makabe：“用于低 K 材料蚀刻的 N2/H2 气体等离子体的自洽模拟”美国物理学会通报。
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