Soichiro Kyushin: "Highly Stable Silyl Radicals (Et_nMe_<3-n>Si)_3Si・(n=1-3)" Organometallics. 16. 5386-5388 (1997)
Soichiro Kyushin: "Highly Stable Silyl Radicals (Et_nMe_<3-n>Si)_3Si・(n=1-3)" Organometallics. 16. 5386-5388 (1997)
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久信宗一郎：“高度稳定的甲硅烷基自由基 (Et_nMe_<3-n>Si)_3Si·(n=1-3)”有机金属学。 16. 5386-5388 (1997)
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