Sr2SiO4ターゲットで作製したSr2SiO4膜組成のアニール温度依存性
Sr2SiO4ターゲットで作製したSr2SiO4膜組成のアニール温度依存性
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使用 Sr2SiO4 靶材制备的 Sr2SiO4 薄膜成分的退火温度依赖性
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
今西啓司，谷脇将太，馬野光博，堀田育志，吉田晴彦， 新船幸二，小椋厚志，佐藤真一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
上岡 聡史;三宅 省三;吉田 晴彦;新船 幸二;佐藤 真一;堀田 育志;今西啓司，谷脇将太，馬野光博，堀田育志，吉田晴彦， 新船幸二，小椋厚志，佐藤真一
