Oxidation process in pulsed laser ablation of Si with various ambients
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DOI：
10.1016/s0040-6090(02)00540-0
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发表时间：
2002-09
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
A. Masuda;S. Usui;Y. Yamanaka;Y. Yonezawa;T. Minamikawa;Michio Suzuki;A. Morimoto;M. Kumeda;T. Shimizu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Masuda;S. Usui;Y. Yamanaka;Y. Yonezawa;T. Minamikawa;Michio Suzuki;A. Morimoto;M. Kumeda;T. Shimizu
