G.Tochitani,M.Shimozuma & H.Tagashira: "Deposition of silicon oxide films from TEOS by low frequency plasma chemical deposition" J.Vac.Sic.Technol.A. Vol.11. 400-405 (1993)
G.Tochitani,M.Shimozuma & H.Tagashira: "Deposition of silicon oxide films from TEOS by low frequency plasma chemical deposition" J.Vac.Sic.Technol.A. Vol.11. 400-405 (1993)
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G·栃谷,M·下祖马
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