SCR based ESD protection in nanometer SOI technologies
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DOI：
10.1016/j.microrel.2006.11.011
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发表时间：
2005-09
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
O. Marichal;G. Wybo;B. Camp;Pieter Vanysacker;B. Keppens
中科院分区：
文献类型：
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作者：
O. Marichal;G. Wybo;B. Camp;Pieter Vanysacker;B. Keppens
