低压Ar气氛下用PS/OCS/Si(111)叠

低压Ar气氛下用PS/OCS/Si(111)叠
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DOI:
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发表时间:
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期刊:
王玉霞*,李赟,陈征,何海平,王建文,邹优鸣,人工晶体学报,2006年4月,第二期,337-341
影响因子:
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通讯作者:
何海平
何海平
中科院分区:
其他
文献类型:
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作者:
王玉霞*;李赟;陈征;何海平

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