Tadashi Shiosaki 他6名: "ELECTRICAL, PROPERTIES OF PZT THIN FILMS GROWN ON Ir/IrO2 BOTTOM ELECTRODES BY MOCVD" Integrated Ferroelectrics. Vol.21. 107-114 (1998)
Tadashi Shiosaki 他6名: "ELECTRICAL, PROPERTIES OF PZT THIN FILMS GROWN ON Ir/IrO2 BOTTOM ELECTRODES BY MOCVD" Integrated Ferroelectrics. Vol.21. 107-114 (1998)
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Tadashi Shiosaki 等 6 人：“通过 MOCVD 在 Ir/IrO2 底部电极上生长的 PZT 薄膜的电气特性”，Integrated Ferroelectrics，第 21 卷（1998 年）。
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