Chemical Data Writing into Metal/oxide Interface: Characterization of Low Dimensional Interface Reactions by I-V Measurements
Chemical Data Writing into Metal/oxide Interface: Characterization of Low Dimensional Interface Reactions by I-V Measurements
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将化学数据写入金属/氧化物界面：通过 I-V 测量表征低维界面反应
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and K. Sakurai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Ishii;A. Nakao;and K. Sakurai
