Ge基板表面処理における接触角とMIS電気特性
Ge基板表面処理における接触角とMIS電気特性
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Ge基体表面处理中的接触角和MIS电学性能
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
金島 岳
中科院分区：
文献类型：
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作者：
高山 祐太郎;森 悠;金島 岳
