Atsushi Hozumi: "Preparation of Silicon Oxide Thin Films with Water Repeliency by RF Plasma-enhanced CVD" Fabrication and Characterization of Advanced Materials. 2. 963-968 (1995)
Atsushi Hozumi: "Preparation of Silicon Oxide Thin Films with Water Repeliency by RF Plasma-enhanced CVD" Fabrication and Characterization of Advanced Materials. 2. 963-968 (1995)
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Atsushi Hozumi：“通过射频等离子体增强 CVD 制备具有防水性的二氧化硅薄膜”先进材料的制造和表征。
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