Direct observation of vacancy in silicon using sub-Kelvin ultrasonic measurements

Direct observation of vacancy in silicon using sub-Kelvin ultrasonic measurements
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使用亚开尔文超声波测量直接观察硅中的空位

DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
Materials Science and Engineering B 134
影响因子:
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通讯作者:
Shintaro Nakamura
Shintaro Nakamura
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Terutaka Goto;Hiroshi Yamada-Kaneta;Yasuhiro Saito;Yuichi Nemoto;Koji Sato;Koichi Kakimoto;Shintaro Nakamura

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