Conductometric study of the radial track etch rate: Free shape analysis
Conductometric study of the radial track etch rate: Free shape analysis
复制标题
径向径迹蚀刻速率的电导研究：自由形状分析
DOI：
10.1016/s0168-583x(00)00052-5
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发表时间：
2000
影响因子：
1.3
通讯作者：
Masaru Yoshida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Liang;P. Apel;Y. Maekawa;Masaru Yoshida
