液体ソースドライエッチングプロセスのためのH_2Oプラズマの生成
液体ソースドライエッチングプロセスのためのH_2Oプラズマの生成
复制标题
液源干法刻蚀工艺中H_2O等离子体的产生
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松谷彰宏
中科院分区：
文献类型：
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作者：
松谷彰宏;大槻秀夫;小山不二夫;松谷彰宏
