Ion Irradiation for Planar Patterning of Magnetic Materials
Ion Irradiation for Planar Patterning of Magnetic Materials
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磁性材料平面图案化的离子辐照
DOI：
10.3390/cryst9010027
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
2.7
通讯作者：
Iwata Satoshi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kato Takeshi;Oshima Daiki;Iwata Satoshi
