Preferred orientations in polycrystalline SnO2 films grown by atmospheric pressure chemical vapor deposition
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DOI：
10.1016/j.tsf.2005.07.248
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发表时间：
2006-04
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
R. Korotkov;P. Ricou;A. Farran
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Korotkov;P. Ricou;A. Farran
