Toshifumi Irisawa: "Growth of SiGe/Ge/SiGe heterostructures with ultrahigh hole mobility and their device application"Journal of Crystal Growth. (2003)
Toshifumi Irisawa: "Growth of SiGe/Ge/SiGe heterostructures with ultrahigh hole mobility and their device application"Journal of Crystal Growth. (2003)
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Toshifumi Irisawa：“具有超高空穴迁移率的 SiGe/Ge/SiGe 异质结构的生长及其器件应用”《晶体生长杂志》。
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