Development of monitoring method for deposited film causing particles in mass-production plasma etching process using a load impedance monitoring system
Development of monitoring method for deposited film causing particles in mass-production plasma etching process using a load impedance monitoring system
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使用负载阻抗监测系统开发大规模生产等离子蚀刻过程中沉积膜产生颗粒的监测方法
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Fumihiko Uesugi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuji Kasashima;Fumihiko Uesugi
