Low-temperature synthesis of hydride semiconductor YH3-delta using Pt capped Y films and its chemical thermodynamics analysis
Low-temperature synthesis of hydride semiconductor YH3-delta using Pt capped Y films and its chemical thermodynamics analysis
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Pt封端Y薄膜低温合成氢化物半导体YH3-delta及其化学热力学分析
DOI：
10.1016/j.tsf.2018.10.054
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
T.Hanajiri
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. Sakai;M. Sakai;T. Kobayashi;M. Yasutake;S. Akisato;R. Mikami;N. Suganuma;Y.Takahashi;Y. Nakajima;M.Tokuda;Y.Fujii;T.Hanajiri
