H.Kawasaki,Y.Matsuda and H.Fujiyma: "Preparation of Uniform aーSi:H Thin Films Using Averaging Effect of Scanning Plasma CVD" Applied Physics Letters.
H.Kawasaki,Y.Matsuda and H.Fujiyma: "Preparation of Uniform aーSi:H Thin Films Using Averaging Effect of Scanning Plasma CVD" Applied Physics Letters.
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H. Kawasaki、Y. Matsuda 和 H. Fujiyma：“利用扫描等离子体 CVD 的平均效应制备均匀的 a-Si:H 薄膜”应用物理快报。
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