Statistic Evaluation for Process damage using an Array Test Pattern in a large Number of MOSFETs
Statistic Evaluation for Process damage using an Array Test Pattern in a large Number of MOSFETs
复制标题
使用阵列测试模式对大量 MOSFET 进行工艺损坏的统计评估
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tadahiro Ohmi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shunichi Watabe;Akinobu Teramoto;Kenichi Abe;Takafumi Fujisawa;Naoto Miyamoto;Shigetoshi Sugawa;Tadahiro Ohmi
