A comparison of diamond growth rate using in-liquid and conventional plasma chemical vapor deposition methods
A comparison of diamond growth rate using in-liquid and conventional plasma chemical vapor deposition methods
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使用液体内和传统等离子体化学气相沉积方法的金刚石生长速率的比较
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Toru Inoue
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshiyuki Takahashi;Hiromichi Toyota;Shinfuku Nomura;Shinobu Mukasa;Toru Inoue
