Planarization of SiC and GaN Wafers by Catalyst-Referred Etching Employing a Photo-electrochemical Reaction
Planarization of SiC and GaN Wafers by Catalyst-Referred Etching Employing a Photo-electrochemical Reaction
复制标题
采用光电化学反应的催化剂参考蚀刻对 SiC 和 GaN 晶圆进行平坦化
DOI：
--
复制
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
礒橋藍
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Isohashi;Y. Sano;and K. Yamauchi;呉彦霖;佐藤 敬志;礒橋藍
