グラフェンナノリボンの集積化合成と不揮発性メモリ応用に向けたプラズマプロセス

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用于非易失性存储器应用的石墨烯纳米带和等离子体处理的集成合成

DOI:
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发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
加藤 俊顕,鈴木 弘朗,金子 俊郎
加藤 俊顕,鈴木 弘朗,金子 俊郎
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
H. Suzuki;T. Kaneko;Y. Shibuta;M. Ohno;Y. Maekawa;and T. Kato;T. Kato and T. Kaneko;W. Okita,H. Suzuki,T. Kaneko,and T. Kato;山口 慶樹,何 杏,金子 俊郎,加藤 俊顕;T. Kato;X. He,Y. Yamaguchi,T. Kaneko,and T. Kato;大北 若奈,鈴木 弘朗,金子 俊郎,加藤 俊顕;X. He,Y. Yamaguchi,T. Kaneko,and T. Kato;小倉 士忠,鈴木 弘朗,金子 俊郎,加藤 俊顕;加藤 俊顕,鈴木 弘朗,金子 俊郎

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