Ge diffUsion through a thin HfO_2 film durhlg the thermal annealing
Ge diffUsion through a thin HfO_2 film durhlg the thermal annealing
复制标题
热退火过程中Ge通过HfO_2薄膜的扩散
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
阿部 泰宏
中科院分区：
文献类型：
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作者：
笹崎大生;加藤孝弘;河合晃;濱崎勝義;阿部 泰宏
